Others 석영이 사용되는 이유?
2010.04.16 19:26
안녕하세요. 플라즈마를 공부하는 최영익이라고 합니다.
plasma device들 중에 석영을 주로 쓰는 경우가 있는데 특별한 이유가있는지요?
플라즈마 발생장치 중에 석영관 사이에서 방전을 한다거나
안테나가 석영관 뒤에 있는 경우가 있는데
석영이 선택되는 특별한 이유가 있는지요?
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [221] | 75435 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19172 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56481 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67568 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89377 |
| 96 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22116 |
| 95 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21096 |
| 94 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1]  | 21006 |
| 93 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] | 20239 |
| 92 | 플라즈마 matching | 20042 |
| » | 석영이 사용되는 이유? [1] | 19851 |
| 90 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19771 |
| 89 | MFC | 19275 |
| 88 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19275 |
| 87 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19121 |
| 86 | 최적의 펌프는? | 18485 |
| 85 | Faraday shielding & Screening effect | 18280 |
| 84 | electrode gap | 17862 |
| 83 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17233 |
| 82 | Virtual Matchng | 16808 |
| 81 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
| 16750 |
| 80 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14073 |
| 79 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13143 |
| 78 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12763 |
| 77 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9638 |
안테나 내부에 사용된다면 전계에 영향을 주지 않고 내구성이 우수한 계열의 재료가 좋겠죠? 제가 알고 있는 내에서 말씀드리면, 석영을 사용하는 가장 큰 이유는 플라즈마 내식성이 우수하고, 불순물 함량 제어가 가능합니다. 사용 환경에 따라 식각에 대한 내구성도 뛰어납니다. SiO2의 결합력이 강하기 때문에 원하지 않는 2차 반응에 대한 특성이 좋다는 얘기겠죠. 표면 거칠기도 작아서 표면 charging에 의한 안정성도 좋습니다. 투명하기 때문에 표면 crack damage에 대한 관리상의 이유도 있습니다. 석영의 제조기술은 상당히 발전해있어 표면처리 방식이나 불순물 제어를 통해 더욱 내구성이 좋은 내부재로의 활용도 가능합니다.