개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:58063 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79244
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21262
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58063
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69622
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94410
108 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22346
107 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21300
106 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21197
105 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20477
104 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20384
103 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20157
102 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법] [1] 19897
101 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19395
100 MFC [Direct liquid injection] 19367
99 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19299
98 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] 18582
97 Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] 18400
96 electrode gap 18016
95 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17418
94 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 17033
93 Virtual Matching [Impedance matching] 16891
92 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 15150
91 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. [플라즈마 영향 인자] 13240
90 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12843
89 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 11102

Boards


XE Login