Matcher HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
2011.04.08 12:17
LCD 장비 업체에 근무하는 김기권이라고 합니다.
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) Source/Drain 공정에서만 발생하고 있습니다 , 발생 시점 은 Plasma On 후 15~20sec 후 (Ti Etching 완료되고, Al 막이 전면적으로 나타난 시점)
증상은 HVDC current '0" , DC Bias 상승 (최대치인 100V 까지), 동시에 Bias Reflect (전반사 - 미세한 Refect가 아니라, 전면적인 반전)
2. 조치 사항
1) HVDC Swap - 변화 없음
2) ESC Filter Swap - "
3) RF Matcher Swap - "
4) ESC 교체 - 일시적 개선되나, 시간을 두고 다시 재발
장비에 문제 인지 ESC 에 문제인지 파악이 안되고 있습니다.
많은 도움 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76540 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91696 |
41 | 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] | 1588 |
40 | IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] | 1485 |
39 | Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] | 1479 |
38 | Impedence 위상관련 문의.. [1] | 1456 |
37 | rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] | 1449 |
36 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1446 |
35 | 알고싶습니다 [1] | 1438 |
34 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1425 |
33 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1383 |
32 | CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] | 1318 |
31 | 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] | 1250 |
30 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1146 |
29 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1120 |
28 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1099 |
27 | Plasma Arching [1] | 1025 |
26 | 고진공 만드는방법. [1] | 1001 |
25 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1001 |
24 | 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] | 951 |
23 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 868 |
22 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 835 |