안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76683
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57157
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68677
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92193
42 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47801
41 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35892
40 matching box에 관한 질문 [1] 29662
39 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27605
38 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23329
37 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22576
36 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21185
35 플라즈마 matching 20231
34 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19211
33 Virtual Matchng 16852
32 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10327
31 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9845
30 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8114
29 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7082
28 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6264
27 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5802
26 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5055
25 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3902
24 임피던스 매칭회로 [1] file 2801
» 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2490

Boards


XE Login