Matcher MATCHER 발열 문제

2018.04.11 18:14

심국보 조회 수:1429

안녕하세요

Ar + O2 wafer 크리닝 설비에

AE사 의 1000W 짜리 RF파워랑 매쳐를 사용하고 있는데요

공정조건이 진공도 250mTorr에 800W에 800초인데 공정진행중 

MATCHER 내부에 TUNE 코일을 고정하는 세라믹부에 발열이 너무 심해서 타버렸습니다.

왜 이런 현상이 일어나는지 조언좀 얻을수 있을까요

챔버의 임피던스 문제인지 매쳐가 고장인지....ㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76668
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92160
22 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5054
21 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6264
20 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2324
» MATCHER 발열 문제 [3] 1429
18 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1463
17 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8102
16 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2487
15 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1907
14 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1948
13 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5801
12 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7080
11 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9844
10 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21185
9 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23328
8 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47799
7 matching box에 관한 질문 [1] 29662
6 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19210
5 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22576
4 Virtual Matchng 16852
3 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35886

Boards


XE Login