Matcher Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.

2019.07.22 10:20

Seong 조회 수:6136

다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75788
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56680
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68067
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90361
20 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] new 2365
19 임피던스 매칭회로 [1] newfile 2676
18 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] new 3536
17 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] new 4895
16 RF calibration에 대해 질문드립니다. new 5690
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] new 6136
14 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] new 6904
13 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] new 7719
12 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] new 9541
11 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] new 9668
10 Virtual Matchng update 16815
9 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] update 19155
8 플라즈마 matching update 20100
7 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] new 21129
6 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] update 22538
5 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 new 23248
4 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 update 27481
3 matching box에 관한 질문 [1] new 29574
2 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) update 35549
1 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] new 47509
쓰기
태그

Boards

XE Login