Matcher ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생]

2013.04.22 15:03

곽지원 조회 수:10090

안녕하세요~

반도체 회사에 근무하는 엔지니어 입니다.

ICP Type의 장비를 다루는데 RF source가 Top(1.8MHz)/Side(2.0MHz)/Bias(13.56MHz)로 구성되어 있고,

Ar gas로 50mTorr의 압력으로 상승 시킨후에 Top RF부터 인가하게 됩니다. (Top의 Antenna 권선수 n= 4 , Side=2)

궁금한 점은 Top을 plasma ignition시 잘 켜지는데, Side부터 인가하게 되면 reflection이 input값만큼 뜨면서 ignition fault가 발생합니다.

TOP이 권선수가 많아 전자의 속도가 더 빨라서 그런것인가요??

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82532
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21947
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58729
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70355
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96231
42 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] 48285
41 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] 36176
40 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 29841
39 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] 27804
38 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23405
37 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성] [3] 22669
36 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21334
35 플라즈마 matching [Heating mechanism, matching] 20402
34 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적] [2] 19329
33 Virtual Matching [Impedance matching] 16905
32 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 11190
» ICP 구성에서 PLASMA IGNITON시 문의 [ICP와 플라즈마 발생] [1] 10090
30 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [연속공정] [4] 9092
29 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7287
28 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6482
27 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5992
26 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5345
25 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4331
24 임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching] [1] file 3007
23 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [최적 정합 조건 및 정합 시간] [2] 2690
쓰기
태그

Boards

XE Login