다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5817
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17284
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64497
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85109
37 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 46779
36 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34843
35 matching box에 관한 질문 [1] 29309
34 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27156
33 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23128
32 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22426
31 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 20921
30 플라즈마 matching 19745
29 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19015
28 Virtual Matchng 16733
27 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9265
26 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6642
25 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 6278
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5766
23 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5418
22 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4539
21 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3977
20 임피던스 매칭회로 [1] file 2264
19 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2213
18 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2080

Boards


XE Login