Matcher RF 반사파와 이물과의 관계

2021.02.25 14:33

이재학 조회 수:605

안녕하십니까 교수님

디스플레이 업체에서 현재 CVD설비 공정분석을 담당하고 있는 이재학입니다.

 

Chamber별로 RF Reflect의 수준이 상이하며, 검사기에 검출되는 불량수와 양의 관계로 확인되고 있습니다.

 

 

1. RF Reflect 발생으로 인해 내부 이물이 과생성되는 건지

 

2. 내부 이물로 의해 RF Reflect가 점점 커지는지 의문입니다.

 

 

1의 경우 Load/Tune을 통해 내부 이물을 제어하는 평가를 진행하려하고

 

2의 경우 Parts 교체와 재질변경을 통해 RF Reflect를 낮추는 방향으로 진행하려합니다.

 

 

교수님의 견해로는 어느방향에 유의차가 있을지 문의드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4912
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16246
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63756
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83572
37 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 46400
36 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 34573
35 matching box에 관한 질문 [1] 29211
34 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27028
33 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23086
32 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22379
31 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 20844
30 플라즈마 matching 19600
29 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 18973
28 Virtual Matchng 16700
27 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9105
26 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6519
25 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 5847
24 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 5634
23 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5298
22 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4064
21 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3293
20 임피던스 매칭회로 [1] file 2120
19 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 1953
18 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 1884

Boards


XE Login