Others [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
2019.07.22 21:04
안녕하십니까, 식각공정 장비 담당하는 회사원입니다.
장비에서 올라오는 신호로 Plasma에 대해 해석을 하는 경우가 있는지 알고싶습니다.
양산라인에서 쓸만한 Monitoring Method에 대해서도 알고싶습니다.
제 주 업무는 장비에서 올라오는 신호들을 분석하는 것인데요,
(저희 부서에서는 일본계 회사 제품을 사용하고있습니다.)
업무를 하다보면 제품 온도 변화 혹은 내부 상태의 변화에 따라 불량이 발생하는 경우가 자주 있습니다.
아쉬운 점은 이걸 장비 신호로 플라즈마의 공정상 영향을 미치는 정보들이 해석이 안되는 경우가 많습니다.
(특정 구간에서 불량이 검출되었으나 Trend 상으로 전혀 문제가 없어 보이는)
센서 심화를 더 시켜야 하는것인지 고민될때가 많습니다.(H/W적인 변경점을 주는것은 상당히 어렵습니다만)
연구실에서 사용하는 방법론들에 대해 알려주시면 많은 도움이 될 것 같습니다.
감사합니다.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [324] | 90141 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 23203 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 59856 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 71699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 100364 |
14 | [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] | 22892 |
13 |
IEDF EQP에 대한 답변
![]() | 20881 |
12 | 플라즈마 진단법에 대하여 [플라즈마 진단과 Spectroscopy] [1] | 20872 |
11 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [Enthalpy probe] [1] | 20428 |
10 | QMA에 관하여 [1] | 19598 |
9 |
AMS진단에 대하여 궁금합니다
![]() | 19101 |
8 | RF compensate probe | 18515 |
7 |
PSM을 이용한 Radical 측정 방법 [이온화 전자 전류의 증가]
![]() | 17192 |
6 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16159 |
5 | laser induced plasma의 측정에 관하여 [Ablation plasma와 resolution] | 14784 |
» | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] | 2328 |
3 | 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [군산대학교 주정훈 교수님] [1] | 2229 |
2 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] | 1349 |
1 | 활성이온 측정 방법 [한국 기계 연구소 송영훈 박사팀] [1] | 725 |