안녕하세요. 

식각공정 설비 Eng'r로 근무하고 있는데요. 

최근 Metal 식각을 하는 설비의 ESC Chuck에 이전에는 보지 못한 현상이 있어 이렇게 문의 드립니다.

첨부한 그림에서 처럼 ESC Chuck Center 부위에 Pit 현상이 발생하고 있습니다.

BIPOLAR ESC구요.  Chucking 전압은 700v이고 Dechuck전압은 -700v 입니다.

이런 현상이 발생하는 요인으로 어떤 것들이 있는지.....

바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76670
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92165
23 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 190
22 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 767
21 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 696
20 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1995
19 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 14766
18 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1404
17 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5509
16 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2812
15 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1596
14 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3481
13 ESC Cooling gas 관련 [1] 3522
12 Si Wafer Broken [2] 2500
11 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4316
10 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1867
9 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8629
» ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 16918
7 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7608
6 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6467
5 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19833
4 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22938

Boards


XE Login