ESC Dry Etcher 내 reflect 현상

2009.08.07 13:39

김기권 조회 수:21619 추천:209

안녕하세요 저는 Dry Etcher 네 세라믹 Coating Type 정전척 ESC 만드는 회사에 다니고 있습니다.
다름이 아니라 고객사에서 Dry Etcher 장비 의 Reflect현상이 발생했다고 하는데 , 이현상에 대해 설명 부탁드립니다.
아울러 이 현상과 ESC 연관성에 대해서도 설명 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [54] 1166
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 886
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49369
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 59406
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 73935
20 esc란? 26748
19 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 24710
18 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22583
» Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 21619
16 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19519
15 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 10547
14 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 6843
13 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6056
12 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 6048
11 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4079
10 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3554
9 ESC Cooling gas 관련 [1] 2308
8 Si Wafer Broken [2] 1548
7 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 1478
6 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 1430
5 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1391
4 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 706
3 ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] 331
2 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 267
1 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 157

Boards


XE Login