Deposition 질문있습니다 교수님

2020.05.06 15:46

한필섭 조회 수:22003

안녕하세요. 이제 막 반도체 수업을 듣기시작한 학생입니다. 한 질문에 궁금증이 생겨 질문 남기게 되었습니다.

4인치 웨이퍼 기준 100nm 두께로 구리 등 금속 박막을 대량으로 하려면 어떻게 해야될까 인 부분이었습니다.

이때 제 생각으로는 CVD공정이 가장 적합한것이 아닌가? 라고 생각하면서도 각 공정마다 장단점이 있어 헷갈립니다.

PVD의 경우 증착속도가 느리고, ALD의 경우 낮은생산 성 등..

어떠한 공정이 가장 적합한 공정이 될 수 있는지 궁금합니다 감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
182 플라즈마내에서의 아킹 43678
181 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34920
180 PEALD관련 질문 [1] 32602
179 RF에 대하여... 31961
178 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31636
177 DC Bias Vs Self bias [5] 31493
176 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 29947
175 PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 29705
174 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29237
173 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28681
172 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24850
171 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24636
170 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24159
169 Arcing 23743
168 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23720
167 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22748
166 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22534
165 플라즈마 코팅에 관하여 22086
» 질문있습니다 교수님 [1] 22003
163 펄스바이어스 스퍼터링 답변 21930

Boards


XE Login