안녕하세요, 의료기기 회사에 재직중인 회사원입니다.

 

최근 사내 내부학습 개념으로 패럴린과 같은 고분자화합물 과 플라즈마 표면처리, 에칭 등의 공부를 하고 있습니다.

스스로나 주변에도 해당 지식이 없는 사람들 뿐이라 인터넷으로 겨우겨우 찾아보며 알아가는 실정입니다.

 

질문드리고자 하는 내용은 에칭과 표면처리에 대한 차이점 입니다.

 

먼저 제가 이해하고 있기로는

표면처리는 보드기판이나 어떠한 물질에 고분자화합물을 코팅하게 되면 증착이 잘 되지 않으므로

플라즈마를 이용해 표면처리(활성화) 를 한 뒤 코팅을 하여 증착력을 높히는 것 과

에칭은 증착된 코팅물질을 없애는 방법 이라고 이해 했습니다.

 

헌데 표면처리 라는 것도 보드의 표면에 있는 이물질이나 원자? 등을 제거하는 것이라고도 생각이 되는데

그렇다면 표면처리를 오래 한다거나 강하게 하면 그것이 에칭이 되는것인가요?

표면처리에 사용되는 제품은 에칭으로는 사용을 못하는 것인가요?

 

질문의 수준이 매우 낮을지도 모르겠네요... 이해 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76718
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 878
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2049
139 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4145
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2009
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1112
136 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3964
135 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1167
134 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1307
133 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 724
132 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2742
» 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1984
130 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 868
129 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 401
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1103
127 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1156
126 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 753
125 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 695
124 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1120
123 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2451

Boards


XE Login