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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65680
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85997
155 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 109
154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 195
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 16595
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 470
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2283
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 339
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 272
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1009
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146 Polymer Temp Etch [1] 284
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 205
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 464
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 624
142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 680
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 576
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1249
139 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3651
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 709
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 741
136 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3596
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