Etch Plasma 식각 test 관련 문의

2021.12.13 16:57

벅바 조회 수:3949

안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
182 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 82
181 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 39
180 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 113
179 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 50
178 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 190
177 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 154
176 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 191
175 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 186
174 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 238
173 PECVD Uniformity [1] 466
172 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 381
171 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 686
170 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 312
169 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 287
168 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 440
167 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 209
166 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 440
165 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 381
164 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
163 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 222

Boards


XE Login