안녕하십니까 현재, 증착관련 기업에서 인턴을 하고있는 김윤재 학생입니다.

Depostion에 관심이 많아서, 교수님의 질문방을 보며 공부(?)를 간혹하는 학생입니다.

 

현재, SiO2박막을 증착하며, 엘립소미터를 이용하여 굴절률과 증착두께를 측정하고 있습니다

그런데, Data를 측정하면  굴절률이 1.30/1.35/1.40/1.45 이런식으로 다양하게 나옵니다. 당연히, 증착두께도 굴절률에 따라 다르게 나옵니다.

SiO2의 굴절률이 1.46으로 알고있는데 굴절률이 다양하게 측정이 된다면, 여러 요인에 의해서 SiO2박막이 제대로 증착이 안된거 같습니다.

 

그런데, 이런 경우라면  Data를 기록할때 어떻게 기록해야하는 궁금합니다.

각 굴절률과  그에 따른 박막두께를 다 기록해야하는지.... 혹은 굴절률과 측정두께의 평균을 구해야 하는지 궁금합니다.... 

유의미한 data를 측정하고 싶은데 지식이 없는 학부생 질문이라 죄송합니다....

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
162 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
161 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1290
160 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 262
159 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 353
158 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 391
157 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 594
156 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 965
155 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 353
154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 590
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28680
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 725
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2357
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 951
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 571
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1783
147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 535
146 Polymer Temp Etch [1] 635
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 455
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 598
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1026

Boards


XE Login