Etch Plasma 식각 test 관련 문의

2021.12.13 16:57

벅바 조회 수:3964

안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

, , , , 이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20175
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
162 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 669
161 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1370
160 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 272
159 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 354
158 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 398
157 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 613
156 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1008
155 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 364
154 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 609
153 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28719
152 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 736
151 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2360
150 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 980
149 RF Sputtering Target Issue [2] file 595
148 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1844
147 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 544
146 Polymer Temp Etch [1] 659
145 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 470
144 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
143 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1056
쓰기
태그

Boards

XE Login