번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5816
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17222
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53091
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64491
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85106
94 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 664
93 etching에 관한 질문입니다. [1] 1664
92 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5002
91 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1147
90 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1674
89 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1940
88 플라즈마 색 관찰 [1] 3261
87 PR wafer seasoning [1] 2478
86 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1306
85 ICP 후 변색 질문 599
84 Plasma etcher particle 원인 [1] 2240
83 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 369
82 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 583
81 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4244
80 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2003
79 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1018
78 ICP와 CCP의 차이 [3] 11236
77 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1513
76 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2185
75 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2960

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