Others O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154

2017.04.26 14:11

푸르뎅뎅 조회 수:6399

안녕하세요. 반도체 회사에 근무 중인 김동조입니다.

소자제작 공정중 O2 플라즈마를 이용하여 표면을 처리하는 부분이 있습니다.

공정 조건은 300w, 300sccm 0.04mbar 이며 친수성을 위한 표면 처리를 하고 있습니다.

제가 궁금한 사항은 일반 상온에서의 표면의 플라즈마 효과가 어느정도 지속이 되는 것인가와,

플라즈마 처리를 한 상태에서 오븐에서 120도 12시간 열처리를 하였을 경우 플라즈마의 효과가 유효한 것인지 궁금합니다.

플라즈마에 관한건 이론적으로만 간단히 알고있었을뿐 회사에 들어오고 처음 사용해 보는 것이라 감이 잘 잡히지 않습니다.

번거로우시겠지만 답변 부탁드립니다.!! 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76690
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68680
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
122 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 886
121 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2252
120 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1374
119 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1086
118 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1240
117 질문있습니다 교수님 [1] 22107
116 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1719
115 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6542
114 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3641
113 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2961
112 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 540
111 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1927
110 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3262
109 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1174
108 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2869
107 PEALD관련 질문 [1] 32611
106 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1068
105 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 706
104 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1973
103 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1489
쓰기
태그

Boards

XE Login