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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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doping type에 따른 ER 차이 [MD 시뮬레이션 연구]
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압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time]
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PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD]
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식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지]
[1] | 2148 |
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플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE]
[1] | 2133 |
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RF FREUNCY와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [CCP와 ionization]
[1] | 2013 |
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wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
[1] | 1949 |
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CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information]
[1] | 1927 |
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Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응]
[1] | 1892 |
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터보펌프 에러관련 [터보 펌프 구동 압력]
[1] | 1845 |
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Pecvd장비 공정 질문 [Dusty plasma와 벽면 particle 제어]
[1] | 1815 |
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PECVD 증착에서 etching 관계 [PECVD 증착]
[1] | 1707 |
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텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응]
[1] | 1602 |
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부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1531 |
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Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘]
[1] | 1527 |
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Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1519 |
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Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 1512 |
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poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
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74 |
[CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [수소의 확산과 쉬스에 의한 가속]
[4] | 1404 |
