안녕하세요 저는 현재 플라즈마 에쳐장비 쪽에서 근무중인 사람입니다.

하지만, 대학과정동안 화학에 대해선 공부해 본적이 없는지라 가스에 대한 지식이 거의 전무하다고 봐도 되는 상태입니다..

그래서 특정 식각물질에 대해 어떠한 가스가 어떤 역할을 하는지,

그에 대한 화학반응식이 무엇인지  공부 하고 싶은데

혹시 관련 교재를 추천해주실 수 있으신가요.. 부탁드립니다.

 

만약 적당한 교재가 없다면, 어떤 방법으로 공부하면 좋을지 조언 좀 부탁드립니다. 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 99930
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24127
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60757
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72721
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 104147
74 SI 표면에 Ar Plasma Etching 하면 안되는 이유 [표면 전처리] [1] 1717
73 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [O2 plasma, ion sputtering] [1] 1595
72 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [수소의 확산과 쉬스에 의한 가속] [4] 1574
71 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1569
70 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석] [1] 1538
69 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [베르누이 정리] [1] 1518
68 etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution] [1] 1508
67 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1481
66 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [Chamber impedance와 공정 드리프트 진단 인자] [1] 1467
65 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1433
64 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1413
63 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1400
62 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1384
61 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1345
» Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1330
59 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1325
58 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1290
57 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1286
56 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1216
55 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1192

Boards


XE Login