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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67562
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52 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1054
51 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1039
50 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 984
49 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 984
48 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 977
47 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 968
46 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 930
45 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 908
44 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 906
43 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 894
42 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 837
41 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 776
40 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 775
39 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 751
38 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 711
37 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 701
36 ICP 후 변색 질문 669
35 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 649
34 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 636
33 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 636
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