|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[233]
| 75734 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19418 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56647 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 67965 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 90141 |
|
14 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23604 |
|
13 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24040 |
|
12 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24543 |
|
11 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24725 |
|
10 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 27834 |
|
9 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 28998 |
|
8 |
PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건
| 29562 |
|
7 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
 | 29757 |
|
6 |
RF에 대하여...
| 30560 |
|
5 |
DC Bias Vs Self bias
[5] | 31312 |
|
4 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
| 31435 |
|
3 |
PEALD관련 질문
[1] | 32159 |
|
2 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다.
[2] | 34815 |
|
1 |
플라즈마내에서의 아킹
| 43614 |
