안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [336] 108085
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 26429
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 63588
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 75257
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 108779
194 플라즈마 식각 커스핑 식각량 283
193 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 437
192 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 448
191 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 458
190 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 487
189 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 513
188 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 515
187 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 516
186 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 545
185 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 547
184 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 550
183 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 561
182 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 611
181 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 622
180 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 627
179 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 645
178 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 652
177 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 657
176 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 670
175 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 672

Boards


XE Login