Etch RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소
2022.03.24 15:39
안녕하십니까, 반도체분야에서 공부하고 있는 비전공자 학생입니다.
최근 RIE 장비로 Etching test를 진행 중 궁금한것이 생겨서 질문드립니다.
RIE 장비에서 Etching rate에 크게 기여하는 부분이 dc-bias라고 알고 있습니다.
가스 유량, 압력, 그리고 power 심지어 reflected power 마저도 동일한데 dc-bias만 대략 70V나오던 것이 50V로 줄어드는 현상이 있었습니다. 혹시 이러한 간간히 일어나는 건가 싶어 질문남겨드립니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76725 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20172 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57165 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
162 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 401 |
161 | PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] | 423 |
160 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 470 |
159 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 472 |
158 | remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] | 485 |
157 | PECVD Uniformity [1] | 502 |
156 | Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] | 509 |
155 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 541 |
154 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 544 |
153 | RF Sputtering Target Issue [2] | 595 |
152 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 604 |
151 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 609 |
150 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 613 |
149 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 636 |
148 | Polymer Temp Etch [1] | 659 |
147 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 669 |
146 | 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] | 694 |
145 | 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] | 695 |
144 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 709 |
143 | 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 724 |