Others 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마

2004.06.19 16:44

관리자 조회 수:14732 추천:262

플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마에 의해 발생하는 잡음 발생이 심각하다고 하셨습니다. 이를 제거하기 위해 전원부를 따로 쓰고 있고 차폐막도 설치했음에도 심호잡음이 계속 측정되고 있다고 하셨습니다.
일단 아크 플라즈마에서는 순간적인 아크 전류의 크기가 커서 발생 잡음은 매우 크고 이의 제거는 매우 어렵습니다. 일단 발생하는 잡음 신호의 주파수와 크기를 측정하실 필요가 있습니다. 이를 참고로 가장 염두에 두셔야 할 것은 차폐막과 전원부의 접지상태를 확인하시기 바랍니다. 잡음은 직류가 아진 고주파 교류신호임을 유의하여 접지 상태를 점검하고 차폐막의 형태나 설치 위치도 중요하니 설치 위치등을 다시 고려하시기 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76650
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20148
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57148
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92127
142 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 723
141 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 730
140 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 732
139 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 751
138 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 840
137 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 866
136 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 871
135 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 883
134 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 974
133 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 984
132 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1044
131 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1055
130 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1068
129 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1086
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1095
127 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1105
126 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1116
125 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1138
124 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1152
123 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1154

Boards


XE Login