Others 고온 플라즈마 관련
2012.06.04 11:49
안녕하세요?
배가스의 SOx와 NOx 처리에 저온 플라즈마를 사용하는데 관련된 논문이 있었는데,
그 중에서 Radical 생성이 잘 되지 않아서 문제가 있는 것을 봤습니다.
혹시 고온 플라즈마를 사용하여 Radical 생성을 더 잘 생성시킬 수 있을까요?
만약 고온 플라즈마가 Radical을 더 잘 생성시킬 수 있다면 왜 지금까지 연구하신 분들이 모두 저온 플라즈마를 사용하는 방안을
연구하셨을까요? 거기에 다른 이유가 있나요?
빠른 답변이면 감사하겠습니다.댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [219] | 75419 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19153 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56477 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67549 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89333 |
| 72 | SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] | 4607 |
| 71 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1]  | 5092 |
| 70 | DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] | 5231 |
| 69 | 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] | 5256 |
| 68 | RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] | 5834 |
| 67 | 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 | 5876 |
| 66 | O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] | 6176 |
| 65 | 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] | 6382 |
| 64 | 안녕하세요, 질문드립니다. [2] | 6544 |
| 63 | 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] | 7652 |
| 62 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 7863 |
| » | 고온 플라즈마 관련 | 8064 |
| 60 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8359 |
| 59 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9208 |
| 58 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9360 |
| 57 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10156 |
| 56 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 10521 |
| 55 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12033 |
| 54 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14701 |
| 53 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 14989 |