Others ECR plasma 장비관련 질문입니다.
2010.10.18 17:35
안녕하세요, 저는 한국과학기술원 석사과정에 재학중인 최선진입니다.
홈페이지에서 plama를 이용한 흥미로운 연구를 하고 있는것 잘 살펴 보았습니다.
다름이 아니라 장비에 관하여 궁금한 점이 있어서, 메일로 질문을 드릴려다가 이곳에 남깁니다.
ECR(electron cyclotron resonance) plama에 관한 것인데요, 혹시 이장비를 이용하여 oxidation을 할 수 있을까요?
특히, 금속 물질을 oxidation하기 위함입니다.
답변부탁드립니다.
점점 차가워지는 날씨에 감기조심하십시오.
감사합니다.
최선진 올림.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57158 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68677 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92193 |
182 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43691 |
» | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34943 |
180 | PEALD관련 질문 [1] | 32611 |
179 | RF에 대하여... | 31997 |
178 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31660 |
177 | DC Bias Vs Self bias [5] | 31522 |
176 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 29971 |
175 | PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 | 29731 |
174 | [Sputter Forward,Reflect Power] [1] | 29258 |
173 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 28713 |
172 | 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. | 24869 |
171 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24641 |
170 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24171 |
169 | Arcing | 23790 |
168 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23756 |
167 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22757 |
166 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22538 |
165 | 질문있습니다 교수님 [1] | 22103 |
164 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22089 |
163 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21941 |