Etch AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제

2022.08.22 14:09

박범훈 조회 수:463

안녕하세요, 처음으로 글을 써봅니다.

 

AlCu Etch시 Cl2, BCl3 , N2 3개의 gas를 이용하여 Etching 하고 있습니다만 Etch 후 검정색 점형태 혹은 가루같은 형태로 Dust가 남아있는 문제가 있습니다.

 

Dust 는 Copper 성분으로 생각되는데 확실하진 않습니다.

Wet으로 제거했던 경험이 있는데 Dry Etch로는 지울 수 없는건지요?

 

Etching 장비는 TCP형태입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76683
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57157
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68677
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92193
182 플라즈마내에서의 아킹 43691
181 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34943
180 PEALD관련 질문 [1] 32611
179 RF에 대하여... 31997
178 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31660
177 DC Bias Vs Self bias [5] 31522
176 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 29971
175 PECVD에서 플라즈마 damage가 발생 조건 29730
174 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29258
173 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28713
172 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24869
171 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24641
170 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24171
169 Arcing 23790
168 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23756
167 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22757
166 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22538
165 질문있습니다 교수님 [1] 22103
164 플라즈마 코팅에 관하여 22089
163 펄스바이어스 스퍼터링 답변 21941

Boards


XE Login