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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64186
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84146
72 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2637
71 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2475
70 PR wafer seasoning [1] 2443
69 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2440
68 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2384
67 Plasma etcher particle 원인 [1] 2141
66 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2118
65 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1950
64 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 1877
63 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1816
62 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1790
61 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1606
60 etching에 관한 질문입니다. [1] 1545
59 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1502
58 터보펌프 에러관련 [1] 1497
57 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1487
56 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1450
55 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1407
54 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1280
53 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1253

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