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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69002
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72 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [1] 48
71 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [1] 986
70 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] 108
69 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 126
68 플라즈마 식각 커스핑 식각량 72
67 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 254
66 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 98
65 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 310
64 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 453
63 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 907
62 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 359
61 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 324
60 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 724
59 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 274
58 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 438
57 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 699
56 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 324
55 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 397
54 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 661
53 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1163

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