Etch Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
2020.07.09 13:00
안녕하세요 교수님
Etch시 센터와 사이드 etch rate이 다를 경우 어떤 공정 파라미터를 조절해야 하나요?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [233] | 75736 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19419 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56648 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67966 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90148 |
| 44 | Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] | 2703 |
| 43 | PR wafer seasoning [1] | 2647 |
| 42 | RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] | 2467 |
| 41 | [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] | 2269 |
| 40 | Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] | 2196 |
| 39 | etching에 관한 질문입니다. [1] | 2113 |
| 38 | [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] | 2100 |
| » | Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] | 2056 |
| 36 | DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] | 2016 |
| 35 | doping type에 따른 ER 차이 [1] | 1938 |
| 34 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 1750 |
| 33 | 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] | 1694 |
| 32 | 터보펌프 에러관련 [1] | 1670 |
| 31 | wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] | 1643 |
| 30 | Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] | 1548 |
| 29 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
 | 1359 |
| 28 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1250 |
| 27 | Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] | 1154 |
| 26 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1110 |
| 25 | 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. | 1094 |