안녕하세요, 플라즈마 식각 관련 연구를 수행 중인 석사과정 대학원생입니다.

 

플라즈마 식각에서 폴리머 증착 및 분해를 통해 비등방성 식각을 수행할 수 있다고 이해하고 있습니다.

그러나 식각 과정 중 설비 내에 부산물, 즉 폴리머가 웨이퍼, ESC, 링 사이에 축적되어 아킹(arcing)이 발생하고,

이로 인해 웨이퍼 및 설비에 손상을 입히게 된다는 것을 알게 되었습니다.

 

이와 관련하여, 부산물인 폴리머가 어떤 메커니즘으로 분해가 일어나며,

폴리머가 축적되는 이유가 어떤 건지 여쭙습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 83125
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22048
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58814
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70468
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96533
75 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 172
74 ICP dry etch 시 공정 문의 사항. [1] 351
73 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 236
72 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 162
71 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 252
» 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 4344
69 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 201
68 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 230
67 플라즈마 식각 커스핑 식각량 101
66 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 368
65 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 407
64 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 504
63 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1073
62 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 419
61 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 405
60 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 855
59 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 594
58 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 492
57 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 792
56 메틸기의 플라즈마 에칭반응 메커니즘 [공정 플라즈마] [1] 439

Boards


XE Login