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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67965
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44 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1938
43 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1548
42 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3880
41 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1076
40 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2268
39 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1071
38 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 967
37 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2099
36 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2055
35 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1249
34 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1153
33 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 5609
32 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2701
31 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1691
30 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2772
29 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1749
28 터보펌프 에러관련 [1] 1670
27 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 2016
26 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1110
25 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 793
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