Deposition 증착에 대하여...

2004.06.19 16:52

관리자 조회 수:18100 추천:239

저희도 증착 실험을 시도하고 있기도 합니다만 증착에 관한 경험은 많지 않습니다. 단지 도구로 사용하는 플라즈마의 특성에 관해서 공부를 조금 하고 있는 정도입니다.

예전 저희 경험으로는 Cu의 경우 sputtering에 의해서는 매우 증착이 잘 되었습니다. 하지만 지금 같은 MO에서도 잘 될 것 같은데, 산소가 너무 많지 않은가 하는 생각되 있긴 합니다. 개인적인 생각으로 현재 장치에서는 처부해야할 부분이 있다면, 박막의 성장 조건을 마련하기 위해서 (일단 시편이 얇은 경우면 DC도 가능하겠지만) self-bias를 인가할 수 있는 substrate를 제작하셔야 할 것 같습니다. 아울러 온도 조절도 가능하면 좋을 것입니다. 박막 제조를 n이해서는 시편의 온도, 시편 위에서의 전위 (이 경우 self bias)등의 조건을 매우 중요합니다. 일단 위의 두가지 조건을 변화할 수 있으면 변화해 보기 바랍니다. 이 점은 다른 박막 실험을 위해서도 필요하니 신경쓰시기 바랍니다. 또한 박막의 제만 의문점에 대해서는 저희 학과의 안 일신 교수님 (전화 031-400-5478/ 혹은 ilsin@hepth.hanyang.ac.kr)로 문의해 보시기 바랍니다. 박막에 대한 많은 경험을 갖고 계신 분입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76668
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68669
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92158
36 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 164
35 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 224
34 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 395
33 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 471
32 PECVD Uniformity [1] 485
31 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 700
30 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 732
29 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1096
28 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1288
27 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1418
26 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1489
25 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1657
24 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1715
23 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1836
22 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1838
21 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2287
20 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2888
19 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3259
18 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4137
17 플라즈마 색 관찰 [1] 4241

Boards


XE Login