Deposition PECVD 증착에서 etching 관계

2019.03.20 09:00

음월 조회 수:900

안녕하십니까? 현재 CVD 장비 회사에 재직중입니다.


다름이 아니라 PECVD 를 이용한 SiNx 증착 test 중, 두께가 쌓을수록 굴절률이 낮아지는 현상으로


많은 고뇌를 하고 있습니다.


SiNx 증착에 사용되는 GAS 는 SiH4, Ar, H2, NH3, N2 총 5가지 입니다.


원하는 시간에 target 두께의 막은 얻지만, 굴절률이 점점 감소합니다.

(plasma 노출시간에 길어지면 길어질수록 굴절률이 더더욱 감소합니다.)


쌓일수록 ETCHING 으로인해 박막이 porous 해질 수 있는지,


혹은 특별한 경우가 있는지 여쭙고자 질문드립니다.


이상입니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [98] 3623
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15307
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50563
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62970
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 81981
30 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 260
29 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 322
28 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 450
27 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 460
» PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 900
25 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 937
24 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 962
23 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 973
22 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1020
21 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1433
20 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 1494
19 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1504
18 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2247
17 플라즈마 색 관찰 [1] 2761
16 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6131
15 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 7472
14 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 7898
13 질문있습니다 교수님 [1] 14604
12 박막 형성 15094
11 PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] 15453

Boards


XE Login