ESC ESC Cooling gas 관련

2019.02.21 19:22

jake88 조회 수:3533

Etch공정에서 ESC Cooling gas로 He을 주로 사용하는데 열전도도가 좋고 불활성가스라는 이유로 많이 사용되는것으로 알고있습니다

비교적 원가가 저렴한 N2가스를 사용하는 경우도 있을까요? 열전도도 반응성이 N2또한 괜찮은것으로 알고있는데 혹시 문제가 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
23 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 113
22 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 59
21 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 250
20 RF Sputtering Target Issue [2] file 597
19 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1386
18 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2314
17 Ar plasma power/time [1] 1437
16 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3805
15 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10298
14 Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] 15803
13 [Sputter Forward,Reflect Power] [1] 29263
12 Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. 20204
11 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20905
10 몇가지 질문있습니다 16578
9 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24874
8 DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 19712
7 sputter 16845
6 Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? 18038
5 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 17778
4 sputtering 18291

Boards


XE Login