안녕하십니까 교수님


공정 실습 중 Dechucking 이슈에 대해 궁금증이 있어 이렇게 글을 남깁니다.

제가 확인한 이슈는 dechucking 이후 핀업 진행 시 웨이퍼가 슬라이딩 하는 문제였는데, 해당 이슈에 대해 config값을 (0->5)변경하여 He flow가 되도록 조치했다는 것을 알았습니다.

chucking 과정중 He의 역할이 온도를 낮추는 역할 정도로 알고 있는데, He 가스가 chucking에서 어떤 역할들을 하는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [295] 77445
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20550
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57476
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69004
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93066
37 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 223
36 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 205
35 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 641
34 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 932
» Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1119
32 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1223
31 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2601
30 ICP 후 변색 질문 754
29 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 435
28 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 703
27 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6504
26 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 642
25 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6155
24 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 4091
23 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11668
22 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3093
21 고온 플라즈마 관련 8092
20 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6578
19 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7719
18 H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] 19465

Boards


XE Login