Others plasma cleanning에 관하여 [Sputtering과 Etch]

2004.06.21 15:39

관리자 조회 수:20907 추천:230

질문 ::

안녕하세요.
여기에 자주 들러 정보를 많은것을 배우고 있읍니다.
evaporation증착설비를 운영하고 있는데,저진공에서 plasma cleanning이라는 공정을 거칩니다.질소개스를 사용합니다.
plasma cleanning을 하는데 있어 원리와 보다 완벽한 cleanning을 하기위한 도움이 될만한 사항을 얻고자 문의를 드립니다.
더운데 수고하시고,건강하세요.

답변 ::

플라즈마를 이용한 cleaning에는 두가지 방법이 쓰입니다.
하나는 물리적인 방법이며 다른 하나는 화학적인 방법입니다. 여기서 물리적인 방법은 sputtering 효과에 의해서
이뤄지는 cleaning이라 할 수 있으며 화학적인 방법은 화학반응 즉 etching 과 같은 효과에서 이뤄지는 것 입니다
따라서 쓰던 반응기내의 잔유 물질이 무엇인가에 따라서 사용하는 개스를 잘 선택할 필요가 있습니다.
예를 들어서 폴리머등의 잔유물에는 산소 플라즈마를 사용하곤 합니다.
물리적인 cleaning 방법에서 중요한 것은 벽으로 나가는 이온의 에너지 입니다. 이 에너지는 벽에 형성되는 쉬스
전위 차에 의해서 생기게 됩니다. 즉 그 값은 플라즈마 전위와 벽 전위 혹은 접지 전위와의 차이 값에 해당합니다.
이 값이 클 수록 에너지가 높은 이온이 벽으로 인가되고 이들이 벽에 남아있는 잔유물에 recoling 에너지를 주어서
벽으로 부터 떨어져 나오게 될 것 입니다. 물론 플라즈마의 밀도가 높을 수록 좋겠지요. 아울러
무거운 입자들이 유효합니다. 따라서 argon등의 개스가 선호되기도 합니다. 아울러 나머지 화학적인
성질이 매우 중요하게 됨을 고려하여 쓰시는 반응기에서 최적의 조건을 찾으시기
바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82122
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21875
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58659
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70282
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96014
37 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] 43809
36 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] 35094
35 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 30293
34 Arcing [아크의 종류와 발생 원인] 24038
» plasma cleanning에 관하여 [Sputtering과 Etch] 20907
32 wafer 전하 소거: 경험 있습니다. 20534
31 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 [코로나 방전, 먼지 집진] 19691
30 H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] 19558
29 Full Face Erosion 관련 질문 [2] 19529
28 플라즈마의 환경이용 18810
27 Plasma of Bio-Medical Application 18034
26 플라즈마 응용분야 17921
25 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 17251
24 플라즈마 처리 [표면처리와 Plasma Chemistry] 16980
23 nodule의 형성원인 16829
22 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 15121
21 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 14773
20 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정] [1] 11955
19 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9306
18 고온 플라즈마 관련 8118

Boards


XE Login