Others 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]

2010.04.16 19:26

최영익 조회 수:20202 추천:151

안녕하세요. 플라즈마를 공부하는 최영익이라고 합니다.

plasma device들 중에 석영을 주로 쓰는 경우가 있는데 특별한 이유가있는지요?

플라즈마 발생장치 중에 석영관 사이에서 방전을 한다거나

안테나가 석영관 뒤에 있는 경우가 있는데

석영이 선택되는 특별한 이유가 있는지요?

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82767
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21988
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58767
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70399
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96353
24 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 760
23 analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리] [1] 876
22 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 985
21 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1130
20 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1595
19 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load] [1] 2453
18 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10165
17 반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하] 12854
16 Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링] 17431
15 Faraday shielding & Screening effect [Fluctuation과 grid bias] 18412
14 최적의 펌프는? [Turbo Pump와 corrosion free] 18592
13 MFC [Direct liquid injection] 19375
12 CCP/ICP에서 자석의 역할에 대하여 [ICP와 자기장의 역할] 19403
» 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20202
10 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어] [1] file 20496
9 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21236
8 Peak RF Voltage의 의미 22718
7 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24797
6 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24877
5 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25651
쓰기
태그

Boards

XE Login