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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
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H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure]
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스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
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OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching]
[1] | 29225 |
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PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage]
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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[Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching]
[1] | 31325 |
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DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포]
[5] | 31757 |
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5 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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RF에 대하여...
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PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정]
[1] | 32744 |
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ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process]
[2] | 35071 |
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플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential]
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