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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 1788 |
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503 |
압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time]
[1] | 2233 |
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Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher]
[1] | 12548 |
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501 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization]
[1] | 2657 |
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공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1277 |
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임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching]
[1]  | 3000 |
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전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성]
[1] | 652 |
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497 |
CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
[3] | 1894 |
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glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD]
[2] | 1739 |
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plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model]
[2] | 3779 |
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대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계]
[2] | 1268 |
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질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포]
[1] | 2716 |
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492 |
chamber impedance [장비 임피던스 데이터]
[1] | 2118 |
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PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간]
[1] | 3667 |
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플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge]
[1] | 2296 |
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489 |
매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달]
[1] | 5336 |
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488 |
[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
[2] | 2250 |
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487 |
Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition]
[1] | 873 |
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486 |
Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
[2] | 6476 |
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485 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
[1] | 1864 |
