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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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OES 원리에 대해 궁금합니다! [플라즈마 빛의 파장 정보]
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Collisional mean free path 문의… [MFP와 평균값 개념]
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Etch 공정(PE mode) Vpp 변동 관련. [Self bias 형성 과정과 전자의 에너지]
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401 |
플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호]
[1] | 4597 |
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플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [반도체 공동 연구소]
[1] | 14238 |
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langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground]
[1]  | 1138 |
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DC Plasma 전자 방출 메커니즘
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플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
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MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]
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플라즈마 기초입니다 [Breakdown과 electrolysis]
[1] | 1365 |
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O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning]
[1] | 1660 |
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393 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance]
[3] | 1726 |
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플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE]
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PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning]
[1] | 2798 |
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플라즈마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [Plasma 이온화]
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플라즈마 기본 사양 문의 [형광등 동작 원리]
[1] | 692 |
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388 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking]
[1] | 2039 |
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wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [ER과 self bias]
[1] | 1981 |
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VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target]
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아래 382번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [Self bias와 capacitance]
[1] | 1108 |
