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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
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ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process]
[2] | 35070 |
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질문 있습니다. [Plasma breakdwon과 plasma particle]
[1] | 18414 |
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pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in]
[1] | 22706 |
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스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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218 |
플라즈마 진단법에 대하여 [플라즈마 진단과 Spectroscopy]
[1] | 20698 |
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안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [Enthalpy probe]
[1] | 20324 |
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216 |
UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating]
[1] | 20969 |
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215 |
Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown]
[1] | 25036 |
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214 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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213 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27334 |
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212 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
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210 |
석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]
[1] | 20157 |
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209 |
surface wave plasma에 대해서 [Microwave와 electron temperature]
[1] | 18613 |
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208 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
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207 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield]
[1] | 21198 |
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206 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate]
[2] | 23902 |
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205 |
질문이 몇가지 있읍니다. [Lorentz force와 Magnetic cusp]
[1] | 19247 |
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204 |
저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서 [Equilibrium과 collision]
[1] | 21393 |
