Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:353

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
67 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 50
66 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 113
65 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 190
64 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 209
63 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 262
62 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 286
61 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 312
» 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 353
59 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 353
58 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 381
57 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 381
56 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 440
55 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 455
54 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 535
53 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 594
52 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 598
51 Polymer Temp Etch [1] 635
50 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
49 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 686
48 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 835

Boards


XE Login