Others N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다.

2016.05.05 09:33

짱구 조회 수:11293

안녕하세요. 반도체 관련 엔지니어입니다.


N2, Ar Plasma 를 사용하여 미세 Pattern Pad 표면 세정을 하려고 합니다.


세정물 오염원은 C, Si 등을 포함한 성분인데요.


N2 와 Ar 중 어떤게 더 효과적일지 궁금합니다. ( 사용 원소에 따른 플라즈마 처리 세기의 차이가 있을거 같은데.. )


자료를 찾다보니 아래와 같이 기술된 것도 있던데 맞나요??

- 사용 기체로 산소 및 질소를 사용하였을 경우 아르곤을 사용한 플라즈마 처리 시 보다 에칭 효과 우수

- 산소 사용 시 질소 사용보다 표면 에칭 효과 우수

※ 표면 에칭: 아르곤 < 질소 < 산소


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
37 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 184
36 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 191
35 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 423
34 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 590
33 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 633
32 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 689
31 ICP 후 변색 질문 722
30 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 856
29 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1072
28 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1159
27 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2571
26 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3043
25 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3857
24 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6045
23 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6359
22 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
21 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7695
20 고온 플라즈마 관련 8090
19 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9259
» N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11293

Boards


XE Login