OES Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.
2020.09.11 17:48
안녕하세요.
우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다
Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.
실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.
가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!
댓글 2
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76712 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20168 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68690 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92262 |
| » | Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] | 3321 |
| 22 | VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] | 2870 |
| 21 | Wafer particle 성분 분석 [1] | 2318 |
| 20 | 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] | 1961 |
| 19 | ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] | 1846 |
| 18 | EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] | 1642 |
| 17 | charge effect에 대해 [2] | 1465 |
| 16 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1454 |
| 15 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 1371 |
| 14 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1363 |
| 13 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1348 |
| 12 | 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] | 1319 |
| 11 | I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 1315 |
| 10 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1]  | 1063 |
| 9 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1021 |
| 8 |
langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다.
[1] | 1015 |
| 7 | OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] | 755 |
| 6 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 714 |
| 5 | CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] | 703 |
| 4 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 603 |
공정 진단 방법 개발의 일환으로 보입니다만, 장비 및 방전 구조에 따른 변수가 많습니다.
만일 하기 운전조건이라면 쉽지 않아 보이며, 그 이유에 대해서는 아래 질문의 답변을 참고하시기 바랍니다.
하지만 다른 구조 및 운전 영역에서 ONO 공정 중 질화막 모니터링 방법에 대한 연구 결과가 있으니 기술 개발에 참고해 보세요.
본 연구실 발표 2018년 "Development of the Virtual Metrology for the Nitride Thickness in Multi-Layer Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Plasma-Information Variables" IEEEPS.