Etch Dry Etcher 에 대한 교재
2009.08.07 17:14
저는 LCD Dry Etcher 내 하부에 장착되는 ESC(Plasma ceramic Coating Type) 만드는 회사에 다니고 있습니다.
전공이 재료공학 인지라 Etcher 에 대한 설비, 공정진행 여러가지 모자란 부분이 많습니다. 이 부분을 독학 공부를 하고 싶은데 도움되는 교재를 추전해 주셨으면 좋겠습니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] | 5816 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17283 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 53101 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 64495 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 85109 |
51 | DC Bias Vs Self bias [5] | 30723 |
50 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 23791 |
49 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23334 |
» | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22360 |
47 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22261 |
46 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20256 |
45 | ICP 식각에 대하여... | 16701 |
44 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 15407 |
43 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 11241 |
42 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9198 |
41 | RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] | 5336 |
40 | DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] | 5003 |
39 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1] ![]() | 4248 |
38 | SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] | 3956 |
37 | 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] | 3924 |
36 | Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] | 3616 |
35 | Plasma 식각 test 관련 문의 [1] | 3548 |
34 | Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] | 2962 |
33 | HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? | 2538 |
32 | PR wafer seasoning [1] | 2478 |