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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath]
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ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도]
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전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation]
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공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 1232 |
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ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정]
[1] | 930 |
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ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델]
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ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential]
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CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고]
[1]  | 328 |
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skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해]
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ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
[1] | 249 |
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ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 245 |
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micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장]
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Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어]
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